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溅射镀应用及工作原理


发布日期:[2009-10-31] 共阅[7706]次

溅射镀应用及工作原理

磁控溅射镀膜设备:

    磁控溅射镀膜设备是一种多功能、率的镀膜设备。可根据用户要求配

置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等,

组态灵活、用途广泛,主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、

铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜,所镀膜层均匀、

致密、附着力强等特点,可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯

反光罩以及app仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。

 

    a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外zui先进的磁控溅射镀膜技术,靶材利用率达到7080%

以上,基体镀膜均匀,色泽一致。

    b平面磁控溅射镀膜机;

    c中频磁控溅射镀膜机;

    d射频磁控溅射镀膜机。

    可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢及金属反应物(氧化

物、氮化物、炭化物)、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附着力好等特点。

一、    单室/双室/多室磁控溅射镀膜机

    该镀膜机主要用于各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业,在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)等

制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。

 

技术指标:

    官方网室尺寸:可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室

    极限压力:8×10-4Pa

    恢复官方网度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa  38min(根据用户要求定)

    工作官方网度:101.0× 10-1Pa

    工艺扑克进入装置:质量流量蜗牛器(可选配自动压强蜗牛仪)

    转动工件架形式:公 / 自转工件架

    溅射源:矩形平面溅射源(14个)/柱状溅射源(1个)/混合溅射源

    可以选配:基片烘烤装置;反溅射清洗

 

二、单室/双室/多室磁控反应溅射镀膜机

    该镀膜机主要用于太阳能吸热管所需要的镀膜涂层(如Al—N/AlCu—C/1Cr18Ni9Ti);轿车后视镜镀膜

(蓝玻);装饰仿金、七彩镀膜;透明导电膜(ITO膜);保护膜。

 

技术指标:

    官方网室尺寸:可以根据用户的要求设计成单室或双室或多室

    极限压力:8×10-4Pa

    恢复官方网度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa  15min(根据用户要求定)

    工作官方网度:101.0× 10-1Pa

    工艺扑克进入装置:质量流量蜗牛器(可选配自动压强蜗牛仪)

    工作气路:2路或3

    转动工件架形式:公 / 自转工件架

    溅射源:矩形平面溅射源(14个)/柱状溅射源(1个)/混合溅射源

  

 三、多功能镀膜机

 

   设备基本配置:

              官方网室

              工件转动系统

              官方网抽气系统

              工作扑克供气系统

   溅射系统:平面溅射/柱状溅射/中频溅射/射频溅射系统

   转动系统

   蜗牛系统

   冷却系统

技术指标:

    官方网室尺寸:φ600×800 φ850×1000  φ1000×1200 φ1100×1500      可以根据用户的要求设计成箱式

    极限压力:8×10-4Pa

    恢复官方网度时间:空载 从大气至 5 × 10-2Pa  15min(根据用户要求定)

    工作官方网度:101.0× 10-1Pa

    工艺扑克进入装置:质量流量蜗牛器(可选配自动压强蜗牛仪)

    工作气路:2路或4

    转动工件架形式:公 / 自转工件架

    溅射源:矩形平面溅射源(14个)/柱状溅射源(1个)/中频溅射源/射频溅射源/混合溅射源

用途:本设备应用磁控溅射原理,在官方网环境下,在玻璃、陶瓷等非金属;半导体;金属基体上制备各种金属膜、合金膜、反应化合物膜、介质膜等等。

 

四、实验系列磁控溅射镀膜机

  技术指标:

     官方网室:φ450×400

     极限压力:5×10-5Pa

     工作压力:11.0× 10-2Pa

     官方网系统主泵:涡轮分子泵

     阴极靶数量:25